特許
J-GLOBAL ID：200903006696743197

TOFMS用サンプルプレート及びその処理方法、並びにTOFMSによる分析方法

発明者：
山口 亮

山口 亮 について

, 
権田 誠

権田 誠 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-146341
公開番号（公開出願番号）：特開2004-347524
出願日： 2003年05月23日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：
【課題】イオン化法にMALDI法を用いた質量分析装置において、サンプルをサンプルプレート上で均一な高さ及び分布になるように調製する。【解決手段】ステンレス製のサンプルプレートの試料載置面をプラズマ処理することにより親水性をもたせた。測定サンプルはカスタム合成DNA(100mer)を使用、滅菌水に溶解し20pmol/μlの濃度に調製した。マトリックス溶液は3-Hydroxypicolinic acid(0.7M)とアンモニウムクエン酸塩(0.07M)を50%CH3CNに溶解して調製したDNA水溶液とマトリックス溶液をあらかじめ混合したのち、その混合液を、上に示したようにプラズマ処理することにより親水性をもたせたサンプルプレート上に0.5μl滴下し、乾燥させて測定サンプルとした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
TOFMSで分析用サンプルを載せる金属製サンプルプレートにおいて、 そのサンプル載置面がその金属自体による親水性よりも大きな親水性をもっていることを特徴とするサンプルプレート。
IPC (2件)：
G01N27/62 ,  H01J49/04
FI (3件)：
G01N27/62 F ,  G01N27/62 K ,  H01J49/04
Fターム (3件)：
5C038EE02 ,  5C038EF15 ,  5C038EF21
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 特許第6287872号
  • 特許第6287872号
  • 表面処理方法及びその装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-208570   出願人：株式会社ブリヂストン, 岡崎幸子, 小駒益弘
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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