特許
J-GLOBAL ID：200903006745742444
イオントフォレーシス用デバイス構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加茂 裕邦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178898
公開番号（公開出願番号）：特開平10-066733
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】使用前の薬物安定性を増大させ、非分極性電極から溶出する金属イオンを特異的に遮断するとともに薬物の逆拡散を防止し、使用時において、薬物の輸率を低下させることなく、長時間にわたり有効な通電性を保持するのに加え、皮膚への電極成分の付着を完全に抑制し、薬物の高い生物学的利用率を達成するイオントフォレーシス用デバイスを得る。【解決手段】(a)非分極性電極、(b)使用時に電極から溶出するイオンの移動を特異的に阻止するイオン交換樹脂を分散した親水性高分子ゲル層及び(c)薬物保持体に薬物が乾燥状態に保持された薬物層を含み、デバイスの使用時に該薬物層を該親水性高分子ゲル層と当接させることにより該乾燥状態の薬物を溶解するようにしてなる使用時溶解型イオントフォレーシス用デバイス構造体、並びに、該親水性高分子ゲル層及び/又は該薬物層に保湿剤を含有させてなる使用時溶解型イオントフォレーシス用デバイス構造体。
請求項（抜粋）：
イオン化される薬物を経皮又は経粘膜により生体内に投与するためのイオントフォレーシス用デバイスであって、(a)非分極性電極、(b)使用時に電極から溶出するイオンの移動を特異的に阻止するイオン交換樹脂を分散した親水性高分子ゲル層及び(c)薬物保持体に薬物が乾燥状態に保持された薬物層を含み、デバイスの使用時に該薬物層を該親水性高分子ゲル層と当接させることにより該乾燥状態の薬物を溶解するようにしてなることを特徴とする使用時溶解型イオントフォレーシス用デバイス構造体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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