特許

J-GLOBAL ID：200903006793736570

インプリントリソグラフィのアライメント

発明者： ディクスマン,ヨハン,フレデリック ,  クルイト-ステージマン,イボンヌ,ウェンデラ ,  ナッペン,レイモンド,ヤコブス ,  クラステブ,クラッシミーア,トドロブ ,  ウイスター,サンダー,フレデリック ,  シュラム,アイヴァー ,  ヴァン ウィンガーデン,ヨハネス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-337999
公開番号（公開出願番号）：特開2007-194601
出願日： 2006年12月15日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：

【課題】インプリントリシグラフィにおいて基板の目標領域に対してインプリントテンプレートをアライメントする方法を開示する。【解決手段】目標領域内に所定の体積のインプリント可能媒体106を堆積させ、インプリント可能媒体106が圧縮されるようにインプリントテンプレートをインプリント可能媒体106に接触させ、インプリントテンプレート、目標領域、またはそれらの両方が、目標領域とインプリントテンプレートの間の界面張力下で、相互に対して横方向に動くことを許容することからなり、そこで、基板より濡れない材料104が、基板の目標領域を少なくとも部分的に囲む構成で設けられる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

インプリントテンプレートを基板の目標領域に対してアライメントする方法であって、 前記目標領域内に所定の体積のインプリント可能媒体を堆積させること、 前記インプリント可能媒体が圧縮されるようにインプリントテンプレートを前記インプリント可能媒体に接触させること、 前記インプリントテンプレート、前記目標領域、またはそれらの両方が、前記目標領域と前記インプリントテンプレートの間の界面張力の下で、相互に対して横方向に動くことを許容すること、 を含み、 前記基板より濡れない材料が前記基板の前記目標領域を少なくとも部分的に囲む構成で設けられている、 方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B

Fターム (15件)：

4F209AA13 ,  4F209AA33 ,  4F209AC05 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• リソグラフィ・プロセス用のスタンプ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-508254   出願人：インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
• パターン形成方法及びパターン形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-125388   出願人：株式会社日立製作所