特許

J-GLOBAL ID：200903006830884282

温度測定方法及びプラズマ処理装置

発明者： 速水 利泰 ,  遠藤 昇佐
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-351314
公開番号（公開出願番号）：特開2004-186409
出願日： 2002年12月03日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】周波数の高い高周波を使用した場合でも、サセプタの温度を精度良く測定することができ、良好な処理を行うことができる温度測定方法及びプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマエッチング装置の処理容器1の底部には、サセプタ2に印加される高周波が外部に漏れない大きさの温度測定用開口30が形成されており、この温度測定用開口30の外側には、サセプタ2の裏面側に形成された測温用の穴32内から放射される赤外線35を測定してサセプタ2の温度を検出する放射温度計31が取り付けられている。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

内部に高周波を印加してプラズマを発生させるための空間が形成され接地電位とされた導体製容器内に配置され、被処理基板が載置されるサセプタの温度を測定する温度測定方法において、 前記サセプタの裏面側の所定の測温部に対向する前記導体製容器の部位に前記高周波が外部に漏れない大きさの開口を形成し、当該開口の外部から、前記測温部から放射される赤外線を検出して前記サセプタの温度を放射温度計によって測定することを特徴とする温度測定方法。

IPC (6件)：

H01L21/3065 ,  C23C16/44 ,  C23C16/505 ,  G01J5/02 ,  G01J5/06 ,  H05H1/46

FI (7件)：

H01L21/302 103 ,  C23C16/44 A ,  C23C16/505 ,  G01J5/02 K ,  G01J5/02 L ,  G01J5/06 ,  H05H1/46 L

Fターム (27件)：

2G066AA13 ,  2G066AC01 ,  2G066AC02 ,  2G066BB01 ,  2G066CA14 ,  4K030FA03 ,  4K030HA12 ,  4K030HA17 ,  4K030JA01 ,  4K030JA10 ,  4K030JA18 ,  4K030KA39 ,  4K030KA45 ,  4K030LA11 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA08 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB18 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA04 ,  5F004CA06 ,  5F004CB12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 真空処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-313079   出願人：株式会社日立製作所
• 静電吸着装置、及び吸着状態判断方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-330889   出願人：日本真空技術株式会社