特許
J-GLOBAL ID：200903006885208006
低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-066563
公開番号（公開出願番号）：特開2006-248835
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】硫化水素を用いて硫酸ニッケル水溶液から亜鉛を除去して、低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液を製造する方法において、ニッケルの共沈殿を防止しつつ亜鉛を選択的に沈殿生成するとともに、形成された硫化亜鉛を含む硫化澱物のスラリーから亜鉛が低濃度にまで除去された硫酸ニッケル水溶液を効率的に分離回収する低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液の製造方法を提供する。【解決手段】(1)亜鉛を含有する硫酸ニッケル水溶液(A)に中和剤を添加して、pHを1.0〜3.5に調整する中和工程、(2)これに硫化水素ガスを吹込み、硫化亜鉛を含有する硫化澱物のスラリーを形成する硫化沈殿工程、及び(3)このスラリーの酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を-50〜-100mVに保持したまま固液分離する工程を含むことを特徴とする低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液の製造方法などによって提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
硫化水素を用いて硫酸ニッケル水溶液から亜鉛を除去して、低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液を製造する方法において、
(1)亜鉛を含有する硫酸ニッケル水溶液(A)に中和剤を添加して、pHを1.0〜3.5に調整された硫酸ニッケル水溶液(B)を得る中和工程、
(2)硫酸ニッケル水溶液(B)に硫化水素ガスを吹込み、酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を-50〜-100mVに調整して硫化亜鉛を含有する硫化澱物と精製硫酸ニッケル水溶液のスラリーを形成する硫化沈殿工程、及び
(3)前記硫化沈殿工程で得られたスラリーの酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を-50〜-100mVに保持したまま固液分離して、低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液(C)を回収する固液分離工程、を含むことを特徴とする低亜鉛濃度の硫酸ニッケル水溶液の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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