化合物とその製造方泡共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト用共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト組成物とその製造方法、フォトレジストパタ-ン形成方泡及び半導体素子

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：荒船博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374661
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279122
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 TMAH現像液に耐える物性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】ノルボルネン-無水マレイン酸共重合体構造に、下記式(3)の単量体を導入した共重合体樹脂を含有させたフォトレジストである。【化1】

請求項（抜粋）：

下記式(3)で表されることを特徴とする化合物。【化1】

IPC (6件)：

C07C 69/753 , C08F222/06 , C08F222/14 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027 , C08L 35/02

FI (6件)：

C07C 69/753 C , C08F222/06 , C08F222/14 , G03F 7/039 601 , C08L 35/02 , H01L 21/30 502 R

引用文献：

審査官引用 (2件)

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