特許
J-GLOBAL ID：200903006933125150

質量流量制御装置

発明者：
田中 誠

田中 誠 について


出願人/特許権者：
日立金属株式会社

日立金属株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-271828
公開番号（公開出願番号）：特開2002-082722
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：
【要約】【課題】 アナログ処理の利点とデジタル処理の利点とを併せ持った理想的な応答性を発揮することができる質量流量制御装置を提供する。【解決手段】 流体を流す流体通路4に介設された流量制御弁10を、外部より入力される設定信号と流量センサ手段12からのセンサ信号とに基づいてコントロールすることにより前記流体の質量流量を制御する質量流量制御装置において、デジタル演算回路系DEとアナログ回路系ANとを有しており、前記流量制御弁の応答性に関する制御の内、少なくとも前記センサ信号と前記設定信号とを比較して前記流量制御弁10のバルブ電圧を決定するフィードバックループは前記アナログ回路系で行なうように構成する。これにより、アナログ処理の利点とデジタル処理の利点とを併せ持った理想的な応答性を発揮する。
請求項（抜粋）：
流体を流す流体通路に介設された流量制御弁を、外部より入力される設定信号と流量センサ手段からのセンサ信号とに基づいてコントロールすることにより前記流体の質量流量を制御する質量流量制御装置において、デジタル演算回路系とアナログ回路系とを有しており、前記流量制御弁の応答性に関する制御の内、少なくとも前記センサ信号と前記設定信号とを比較して前記流量制御弁のバルブ電圧を決定するフィードバックループは前記アナログ回路系で行なうように構成したことを特徴とする質量流量制御装置。
IPC (3件)：
G05D 7/06 ,  G01F 1/696 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
G05D 7/06 Z ,  H01L 21/205 ,  G01F 1/68 201 Z
Fターム (16件)：
2F035EA01 ,  2F035EA04 ,  5F045EE04 ,  5F045GB04 ,  5H307AA20 ,  5H307BB01 ,  5H307DD04 ,  5H307DD06 ,  5H307EE02 ,  5H307EE07 ,  5H307EE19 ,  5H307FF06 ,  5H307GG11 ,  5H307GG15 ,  5H307HH04 ,  5H307HH12
引用特許：
審査官引用 (4件)
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