特許

J-GLOBAL ID：200903006966719072

変化する断面を有する反応装置、その製造方法および局所的接触時間を変化させて反応を行う方法

発明者： ワン,ヨン ,  カオ,チャンシュ ,  キンブル,ジェームズ,ビー. ,  シルバ,ローラ,ジェイ.
出願人/特許権者： バッテル メモリアル インスティチュート
代理人 (3件)： 清水 初志 ,  新見 浩一 ,  清水 千春
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-506947
公開番号（公開出願番号）：特表2006-508783
出願日： 2003年05月21日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】 温度分布または局所的反応率分布を均一にし、所望の生成物の選択性や触媒寿命の向上が図れる反応方法および反応装置を提供する。【解決手段】 断面積が変化する化学チャンネル内で化学反応を行なわせ、このチャンネルを反応物質が流れるにともなって局所的接触時間が変化するような方法を採用する。さらには、断面積が変化する反応チャンネルを有する反応装置を採用する。好ましい実施例では、反応チャンネル部分が入口から出口へ向けて広くなるような台形を備える。

請求項（抜粋）：

入口と出口を有しかつ触媒を含む反応マイクロチャンネルからなり、前記反応マイクロチャンネルの断面は反応触媒を含むマイクロチャンネル部分の流路に沿って変化することを特徴とする触媒的化学反応装置。

IPC (3件)：

B01J 19/00 ,  C07C 1/04 ,  C07C 9/04

FI (3件)：

B01J19/00 321 ,  C07C1/04 ,  C07C9/04

Fターム (31件)：

4G075AA02 ,  4G075AA39 ,  4G075AA45 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BD02 ,  4G075BD14 ,  4G075BD16 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EA07 ,  4G075EB21 ,  4G075EB22 ,  4G075EE01 ,  4G075EE03 ,  4G075EE21 ,  4G075EE31 ,  4G075FA14 ,  4G075FA16 ,  4G075FB02 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC41 ,  4H006BA08 ,  4H006BA20 ,  4H006BA23 ,  4H006BA55 ,  4H006BD81 ,  4H039CA60 ,  4H039CB20 ,  4H039CL35

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 微小流路構造体、その製造方法及びその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-112131   出願人：東ソー株式会社
• 気相反応物質触媒反応用化学反応器及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-516650   出願人：バッテル・メモリアル・インスティチュート
• 集積マイクロセラミック化学プラント
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094957   出願人：イーストマンコダックカンパニー