特許
J-GLOBAL ID:200903006984045860
工作物を化学的機械研磨するための方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 三彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-585931
公開番号(公開出願番号):特表2005-523579
出願日: 2003年03月11日
公開日(公表日): 2005年08月04日
要約:
【課題】高い製造速度と同時に工作物の高度な清浄性が保持されるようにして工作物の化学的機械研磨を実施するための方法および装置を創成すること。【解決手段】本発明の工作物を化学的機械研磨するための方法は、密閉されたクリーンルーム内で工作物とくにシリコンウェーハの搬送、化学的機械研磨および乾燥を実施するための方法であって、以下の段階すなわち、工作物が少なくとも1台の搬送装置によって装入/取出しステーションから取出されて中間ステーションに引渡される段階と、前記工作物が研磨装置の少なくとも1個の研磨ヘッドによって収容されて中間ステーションから研磨装置の研磨皿に搬送され、同所において研磨ヘッドの回転下で、回転する研磨皿に対して保持される段階と、研磨後に前記工作物が研磨ヘッドによって中間ステーションに返送されて研磨ヘッドから取り外され、中間ステーションにおいて浄化および/または化学処理される段階と、浄化および/または化学処理された前記工作物が中間ステーションから選択的に第二の研磨装置に搬送されるかまたは洗浄/乾燥装置に搬送されて同所で洗浄、乾燥される段階と、洗浄・乾燥された前記工作物が搬送装置によって装入/取出しステーションに返送される段階と、工作物を収容する前にその都度研磨ヘッドが浄化される段階とを経て実施される。
請求項(抜粋):
密閉されたクリーンルーム内で工作物とくにシリコンウェーハの搬送、化学的機械研磨および乾燥を実施するための方法であって、以下の段階すなわち、
工作物が少なくとも1台の搬送装置によって装入/取出しステーションから取出されて中間ステーションに引渡される段階と、
前記工作物が研磨装置の少なくとも1個の研磨ヘッドによって収容されて中間ステーションから研磨装置の研磨皿に搬送され、同所において研磨ヘッドの回転下で、回転する研磨皿に対して保持される段階と、
研磨後に前記工作物が研磨ヘッドによって中間ステーションに返送されて研磨ヘッドから取り外され、中間ステーションにおいて浄化および/または化学処理される段階と、
浄化および/または化学処理された前記工作物が中間ステーションから選択的に第二の研磨装置に搬送されるかまたは洗浄/乾燥装置に搬送されて同所で洗浄、乾燥される段階と、
洗浄・乾燥された前記工作物が搬送装置によって装入/取出しステーションに返送される段階と、
工作物を収容する前にその都度研磨ヘッドが浄化される段階
とを経て実施される工作物を化学的機械研磨するための方法。
IPC (2件):
FI (6件):
H01L21/304 621D
, H01L21/304 622G
, H01L21/304 622L
, H01L21/304 622Q
, H01L21/304 622S
, B24B37/04 Z
Fターム (5件):
3C058AA07
, 3C058AB03
, 3C058AB08
, 3C058CB03
, 3C058DA17
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
ドイツ特許出願公開第197 19 503号
-
米国特許第5,885,138号
審査官引用 (2件)
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