特許
J-GLOBAL ID：200903007005614465
周期性パターンのムラ検査方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-286120
公開番号（公開出願番号）：特開2000-111492
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】 光透過性の周期性パターンが形成されている試料から透過光像を画像入力してパターンのムラを検査する際、周辺部の透過光像が暗い又は明るい試料について、該周辺部に存在するムラをも確実に検出する。【解決手段】 試料の透過光像を撮像して試料画像データを入力し(ステップ?@)、該試料画像データを、ステップ?Aで光源のみを撮像して入力される光源画像データで除算して透過率画像データを作成し(ステップ?B)、該透過率画像データを平滑化後に強調処理して、その不均一部分を抽出すると共に、同透過率画像データから検査対象領域を選択し(ステップ?C〜?E)、平滑化の透過率画像データから該検査対象領域に含まれる前記不均一部分のみをムラとして検出する。
請求項（抜粋）：
光透過性の周期性パターンを有する試料に、裏側から光源により照明した際の透過光像を撮像して入力される試料画像データに基づいて、周期性パターンのムラを検出する周期性パターンのムラ検査方法において、前記試料画像データを、前記光源のみを撮像して入力される光源画像データで除算して透過率画像データを作成し、該透過率画像データを強調処理して、その不均一部分を抽出すると共に、同透過率画像データから検査対象領域を選択し、該検査対象領域に含まれる前記不均一部分のみをムラとして検出することを特徴とする周期性パターンのムラ検査方法。
IPC (5件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G02B 5/20 101
, H01J 9/14
, H01J 9/42
G01N 21/88 645 Z
, G01B 11/24 F
, G02B 5/20 101
, H01J 9/14 G
, H01J 9/42 A
2F065AA49
, 2F065BB18
, 2F065CC00
, 2F065FF04
, 2F065GG02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL49
, 2F065QQ13
, 2F065QQ33
, 2F065UU05
, 2G051AA73
, 2G051AB02
, 2G051AB20
, 2G051CA03
, 2G051CB02
, 2G051EB01
, 2G051ED01
, 2G051ED14
, 2G051FA04
, 2H048BA00
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 5C012BE03
, 5C027HH29
