ケイ素含有基体を処理するための混合物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：土屋勝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-511364
公開番号（公開出願番号）：特表平10-506144
出願日： 1995年09月25日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】ケイ素含有基体、好ましくはガラスまたはセラミック材料を処理するための混合物は次の成分から成る。a)Si-H-結合を含む少なくとも1つのポリシロキサンで形成される成分A、b)1つのアルコキシ残基または1つのCH3COO残基が官能基として働く、少なくとも一、二、三または四官能性シランで形成される成分B、およびc)少なくとも1つの無水有機または無機強酸で形成される成分C。上記混合物は溶剤で希釈すると、特に有利に上記基体に塗布することができる。

請求項（抜粋）：

a)Si-H-結合を含みかつ一般式、または、式中のRは1〜12炭素原子および/または置換されていないか置換されたフェニル残基を持つアルキル残基(部分的に水素で置換可能);nの範囲は式FIで2〜50、式FIIで4〜50、を持つ少なくとも1つのポリシロキサンにより形成される成分A、 b)一般式、 F III = R′zSi R′′4-z 式中のR′は1〜12炭素原子を持つ置換されていないか置換されたアルキル残基、5〜6炭素原子を持つシクロアルキル残基、置換されていないか置換されたフェニル残基および/またはビニル残基;官能性残基として働くR′′はアルコキシ残基またはCH3COO-残基(上記アルコキシ残基のアルキル部分は1〜12の炭素原子を有する);zの範囲は0〜2、を持つ少なくとも1つの二、三または四官能性シランで形成される成分B、および c)少なくとも1つの無水有機または無機強酸で形成される成分C、から成るケイ素化合物を含むことを特徴とする基体、好ましくはガラスまたはセラミック材料製の基体を処理するための混合物。

IPC (3件)：

C09D183/05 , C03C 17/30 , C04B 41/84

FI (3件)：

C09D183/05 , C03C 17/30 A , C04B 41/84 A

引用特許：

審査官引用 (31件)

特開平4-144940
撥水処理剤組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-073031 出願人：信越化学工業株式会社
硬化の間に基体への改善された結合を現すオルガノシロキサン組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-211402 出願人：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション

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