特許

J-GLOBAL ID：200903007096086393

基板洗浄装置

発明者： 浅野 徹
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-240677
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059885
出願日： 2001年08月08日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 基板に対して速やかにパーティクルの分布状態の検出を行うことにより、基板を確実に洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板洗浄装置は、インデクサ部11と、基板Wの表面を洗浄するための表面洗浄部15と、基板Wの裏面を洗浄するための裏面洗浄部16と、基板Wに付着したパーティクル分布状態を検出するためのパーティクル検査部17と、基板Wを反転させる反転部18と、一対の搬送ユニット12、13からなる搬送部14とを備える。表面洗浄部15または裏面洗浄部16において洗浄されパーティクル検査部17で検査された後の基板Wにおけるパーティクルの分布状態に基づいて、表面洗浄部15または裏面洗浄部16における洗浄条件が変更される。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を収納したカセットを載置するインデクサ部と、基板を洗浄ブラシにより洗浄する洗浄機構を備えた洗浄部と、基板に付着したパーティクル分布状態を検出するパーティクル検査部と、基板を前記インデクサ部、前記洗浄部および前記パーティクル検査部の間で搬送する搬送部と、前記洗浄部において洗浄し、前記パーティクル検査部で検査した後の、当該基板におけるパーティクルの分布状態に基づいて、前記洗浄ブラシの回転速度または洗浄ブラシの基板に対する押圧力の少なくとも一方を変更する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 643 ,  C03C 23/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (5件)：

H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 643 C ,  C03C 23/00 A ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (6件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H090JC19 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 板状ワークの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-004522   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社