特許

J-GLOBAL ID：200903019499524356

板状ワークの洗浄装置

発明者： 石田 貴久
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004522
公開番号（公開出願番号）：特開2001-195731
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 洗浄後のワークにおける表面検査を行って、洗浄不良品の数が多い時には、洗浄条件を変更することにより、洗浄不良となっていることに起因するワークの排除を抑制すると共に洗浄効率を高める。【解決手段】 超音波洗浄部1と、スクラブ洗浄部2と、リンス部3と、乾燥部4とから構成される洗浄部5には表面検査部6が付設されており、洗浄後のワークWは表面検査部6に移行させて、この表面検査部6で検出される表面欠陥のうち、パーティクル欠陥及びステイン欠陥を持った洗浄不良品のワークWが像かすると、コントローラ10により洗浄条件、ロールブラシ20のワークWへの押圧力とその回転数等を変更する。

請求項（抜粋）：

板状ワークの表面を洗浄するために、1または複数の洗浄工程と、洗浄後にワークを乾燥する乾燥工程とを含む洗浄機構部と、洗浄・乾燥後のワークの表面の欠陥検査を行う表面検査部と、この表面検査部の検出結果からワークの洗浄精度を判定して、洗浄精度が低下したことを検出した時には、前記洗浄機構部における洗浄条件を変化させるコントローラとを備える構成としたことを特徴とする板状ワークの洗浄装置。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  B08B 1/02 ,  B08B 1/04 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/304 648

FI (5件)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 1/02 ,  B08B 1/04 ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/304 648 G

Fターム (35件)：

2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065BB03 ,  2F065CC03 ,  2F065CC19 ,  2F065FF41 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT00 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116BA02 ,  3B116BA14 ,  3B116BB02 ,  3B116BB22 ,  3B116BB33 ,  3B116BB62 ,  3B116BB85 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  5D112AA24 ,  5D112GA08 ,  5D112GA10 ,  5D112GA16 ,  5D112JJ05 ,  5D112KK06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ガラス基板のライン検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-017556   出願人：日本板硝子株式会社
• ウェハーの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-106382   出願人：株式会社リコー
• マスク洗浄機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-045120   出願人：山形日本電気株式会社