特許
J-GLOBAL ID：200903007102990153

光導波路及びその作製方法

発明者：
柴田 泰夫

柴田 泰夫 について

, 
菊池 順裕

菊池 順裕 について

, 
東盛 裕一

東盛 裕一 について


出願人/特許権者：
日本電信電話株式会社

日本電信電話株式会社 について


代理人 (3件)： 光石 俊郎 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-146416
公開番号（公開出願番号）：特開2006-323136
出願日： 2005年05月19日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】 導波路幅の場所依存性を除去することでパターン変換誤差が少なく均一に再現性よく形成され、且つ物理的な衝撃に強い光導波路及びその作製方法を提供する。【解決手段】 上部クラッド層103及び下部クラッド層101により挟まれたコア層102を有し、上部クラッド層103、下部クラッド層101及びコア層102より構成される光導波領域と、空気との屈折率差により基板面内方向の光閉じ込めがなされている光導波路を光導波領域に沿って光導波領域の両側にそれぞれ一定の幅w12及びw13を有する溝104a及び104bが形成される構成とした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
上部クラッド層と、下部クラッド層と、前記上部クラッド層及び前記下部クラッド層により挟まれたコア層とを有し、前記上部クラッド層、前記下部クラッド層及び前記コア層より構成される光導波領域と、空気との屈折率差により基板面内方向の光閉じ込めがなされている光導波路において、前記光導波領域に沿って前記光導波領域の両側に一定の幅を有する溝が形成されていることを特徴とする光導波路。
IPC (2件)：
G02B 6/122 ,  G02B 6/13
FI (2件)：
G02B6/12 A ,  G02B6/12 M
Fターム (17件)：
2H147AB04 ,  2H147BA05 ,  2H147BA06 ,  2H147BA15 ,  2H147BB02 ,  2H147BB05 ,  2H147BD02 ,  2H147BE13 ,  2H147CB03 ,  2H147EA12A ,  2H147EA12B ,  2H147EA12C ,  2H147EA14A ,  2H147EA25B ,  2H147FB04 ,  2H147FC01 ,  2H147FE02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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