特許
J-GLOBAL ID:200903007194000715
ガスバリアフィルム、ガスバリア膜の作製方法及び作製装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉村 俊一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-038558
公開番号(公開出願番号):特開2009-196155
出願日: 2008年02月20日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
【課題】ディスプレイ用途であり、透過率と色味に優れたガスバリアフィルムとその作製方法、装置を提供。【解決手段】基材フィルム2と、その上に設けられた、ケイ素、酸素及び窒素を含有するガスバリア膜3とを少なくとも有するガスバリアフィルム1であって、ガスバリア膜は厚さ方向に、酸素含有量が窒素含有量よりも多い領域Aと、窒素含有量が酸素含有量よりも多い領域Bと、領域Aと領域Bとの間にあって領域Aの酸素含有量が徐々に減少するとともに領域Bに向かって窒素含有量が徐々に増加する領域Cとを有するように構成する。ガスバリア膜の作製装置は、基材フィルムの供給装置と、ガスバリア膜を形成した後の基材フィルムの巻取装置と、供給装置と巻取装置との間の複数の成膜室を少なくとも有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられた、ケイ素、酸素及び窒素を含有するガスバリア膜とを少なくとも有するガスバリアフィルムであって、
前記ガスバリア膜は、その厚さ方向に、酸素含有量が窒素含有量よりも多い領域Aと、窒素含有量が酸素含有量よりも多い領域Bと、領域Aと領域Bとの間にあって領域Aの酸素含有量が徐々に減少するとともに領域Bに向かって窒素含有量が徐々に増加する領域Cと、を有することを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (4件):
B32B 27/00
, C23C 14/06
, C23C 14/34
, C23C 14/56
FI (4件):
B32B27/00 B
, C23C14/06 E
, C23C14/34 M
, C23C14/56 A
Fターム (33件):
4F100AK01C
, 4F100AK42
, 4F100AT00C
, 4F100BA05
, 4F100BA06
, 4F100BA10A
, 4F100BA10E
, 4F100BA13
, 4F100BA22
, 4F100EH662
, 4F100GB41
, 4F100JD02A
, 4F100JD02E
, 4F100JD03
, 4F100JD04
, 4F100JD06
, 4F100JM03A
, 4F100JM03B
, 4F100JM03D
, 4F100JM03E
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA52
, 4K029BB02
, 4K029BC01
, 4K029CA04
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC16
, 4K029DC35
, 4K029EA05
, 4K029JA10
, 4K029KA03
引用特許:
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