特許
J-GLOBAL ID：200903007231694552
複合成膜装置およびスパッタリング蒸発源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梶 良之
, 須原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-025710
公開番号（公開出願番号）：特開2005-213636
出願日： 2004年02月02日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 成膜上の問題が生じることなく、所望の特性の硬質皮膜が得られる、複合成膜装置およびスパッタリング蒸発源を提供することを目的とする。【解決手段】 同一成膜チャンバ8 内に、磁場印加機構4 を有するアーク蒸発源5 、6 と、スパッタリング蒸発源2 、3 とを各々1台以上配置した成膜装置であって、成膜する基板1 を、前記アーク蒸発源5 、6 とスパッタリング蒸発源2 、3 との間で、順次相対的に移動させる手段を有し、成膜中に、隣り合う前記蒸発源同士の磁力線10が互いにつながるように前記磁場印加機構4 が構成されていることである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
同一成膜チャンバ内に、磁場印加機構を有するアーク蒸発源とスパッタリング蒸発源とを各々1台以上配置した成膜装置であって、成膜する基板を、前記アーク蒸発源とスパッタリング蒸発源との間で、順次相対的に移動させる手段を有し、成膜中に、隣り合う前記蒸発源同士の磁力線が互いにつながるように前記磁場印加機構が構成されていることを特徴とする複合成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
4K029AA02
, 4K029AA04
, 4K029BA58
, 4K029BA60
, 4K029BB02
, 4K029BD05
, 4K029CA03
, 4K029CA04
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029DA06
, 4K029DC16
, 4K029DC20
, 4K029DC42
, 4K029DD06
, 4K029EA03
出願人引用 (5件)
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米国特許第5,234,561 号明細書(図1、第9、10列)
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特許2836876 号公報(請求項、図1、第9頁)
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摺動部材
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-039871
出願人：日本ピストンリング株式会社
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
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