イオン源

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：絹谷信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-018071
公開番号（公開出願番号）：特開平8-209341
出願日： 1995年02月06日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【目的】所望の重イオンビームのみを発生させるイオン源を提供する。【構成】水素を含む作動ガスGを満たし、放電によりプラズマ化させるプラズマ室1を設けると共にそのプラズマ室1の一側に引出し電極7を設けてイオンビームを発生させるイオン源において、上記プラズマ室1内に、引出し電極7に向かう重イオンを通過させ軽イオンを捕捉する磁気フィルタ9をを設けた。

請求項（抜粋）：

水素を含む作動ガスを満たし、放電によりプラズマ化させるプラズマ室を設けると共にそのプラズマ室の一側に引出し電極を設けてイオンビームを発生させるイオン源において、上記プラズマ室内に、引出し電極に向かう重イオンを通過させ軽イオンを捕捉する磁気フィルタを設けたことを特徴とするイオン源。

IPC (3件)：

C23C 14/32 , H01J 27/08 , H01J 37/08

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-144048
イオン源
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-315120 出願人：石川島播磨重工業株式会社
特開平3-291375

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