特許
J-GLOBAL ID:200903007360904750

ファイバーレーザー装置及びレーザー加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-350306
公開番号(公開出願番号):特開平11-284255
出願日: 1998年12月09日
公開日(公表日): 1999年10月15日
要約:
【要約】【課題】 集光性に優れ、熱的に出力や横モードが安定であるといったファイバーレーザーの長所を維持しつつ、そのレーザー出力を格段に向上させることを可能にするレーザー装置を提供する。【解決手段】 レーザーファイバー1を該レーザーファイバー1を励起する励起光L1,L2を閉じ込める得る構造体であるガラス円柱体2の外周面2aに巻回し、レーザーダイオード41,42からの励起光L1,L2をガラス円柱体2の端面2bの外周端部近傍からプリズム31,32を通じて入射させ、外周面2aの内側面で全反射を繰り返えさせて閉じ込め、この閉じ込めた励起光をガラス円柱体2に接触する部分を通じてレーザーファイバー1に導入して励起するようにした。
請求項(抜粋):
レーザー活性物質を含むコアを有し、前記活性物質が励起されることにより端部よりレーザー光を出力する光ファイバーと、前記活性物質を励起するための励起光を発生する励起光源と、前記励起光を閉じ込め得る構造体とを備え、前記光ファイバー側面の少なくとも一部と前記構造体とが直接または光学媒質を介して間接的に接触しており、その接触した部分を通じて入射する励起光により前記活性物質が励起されることを特徴とするファイバーレーザー装置。
IPC (3件):
H01S 3/06 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/094
FI (3件):
H01S 3/06 B ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/094 S
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 光増幅器
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-045770   出願人:アルカテル・エヌ・ブイ
  • 特開平4-253037
  • 特開平1-260405
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引用文献:
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