特許
J-GLOBAL ID：200903007458699496
遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
園田 吉隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-077238
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290157
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】 良好な光保護力を有する化粧品用組成物及びその用途を提供する。【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル、特に水中油型のビヒクル中に、(i)第1の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和した形態であっても良い、ベンゼン-1,4-ジ(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン酸)と、(ii)第2の遮蔽剤として、少なくとも1つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体とを含有せしめ、該第1及び第2の遮蔽剤を、日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合にする。
請求項（抜粋）：
化粧品として許容可能なビヒクル中に:(a)第1の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和した形態であっても良い、ベンゼン-1,4-ジ(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン酸)と、(b)第2の遮蔽剤として、次の式(II):【化1】[上式中、(i)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよく、C3-C18アルキル基、C2-C18アルケニル基又は式-CH2-CH(OH)-CH2-OT1(ここで、T1は水素原子かC1-C8アルキル基である)の残基を示し;(ii)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよく、次の式(1):【化2】{上式中、- R6は、共有結合、直鎖状又は分枝状のC1-C4アルキル基又は式-Cm1H2m1-もしくは-Cm1H2m1-O-(ここで、m1は1〜4の数である)の残基を表し;- P1は0〜5の数であり;- R7、R8及びR9基は、同一でも異なっていてもよく、C1-C18アルキル基、C1-C18アルコキシ基又は次の式:【化3】(上式中、R10はC1-C5アルキル基である)の残基を示す}の残基を示すことができ;- A1は、次の式:【化4】{上式中、- R3は水素原子、C1-C10アルキル基、式-(CH2CHR5-O)n1R4(ここでn1は1〜16の数であり、R5は水素又はメチルか、T1が上記と同じ意味を有する-CH2-CH(OH)-CH2OT1の構造の残基である)の基を示し;- R4は水素原子、金属カチオンM、C1-C5アルキル基又は式-(CH2)m2-OT1(ここで、m2は1〜4の数でT1は上述と同じ意味を有する)の残基を表し;- Q1はC1-C18アルキル基である}の1つに対応する残基を示す]に相当する少なくとも1つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、を含有し、該第1及び第2の遮蔽剤が、日光保護ファクターに対して相乗活性を生じる割合で存在していることを特徴とする、特に皮膚及び/又は毛髪の光保護のための、局所的に使用される化粧品用組成物。
IPC (7件)：
A61K 7/42
, A61K 7/032
, A61K 7/035
, A61K 7/06
, A61K 7/075
, C09K 3/00 104
, C09K 3/00
A61K 7/42
, A61K 7/032
, A61K 7/035
, A61K 7/06
, A61K 7/075
, C09K 3/00 104 B
, C09K 3/00 104 Z
