特許
J-GLOBAL ID:200903007486969237
地盤改良工法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-066562
公開番号(公開出願番号):特開2005-256323
出願日: 2004年03月10日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
【課題】地盤中の不良な地層だけを選択的に改良できるようにした。【解決手段】本発明の地盤改良工法は、下側に噴射口を有した中空ロッド6を、地表側より地盤中に貫入して、前記噴射口を当該地盤中に存在する改良対象層E2内に配置する貫入工程と、粒状物と液体との混合物を中空ロッド6の噴射口から噴出することにより、改良対象層E2内に透水性の粒状層9を造成する造成工程と、地表側より真空吸引用パイプ10を粉状層9まで貫入するとともに、パイプ10に接続された真空ポンプ14の駆動により改良対象層E2内に保留されている間隙水等を粒状層9及びパイプ10を通じて地表側に吸引して排出する排液工程とを経るものである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
噴射口を有した中空ロッドを、地表側より地盤中に貫入して、前記噴射口を当該地盤中に存在する改良対象層内に配置する貫入工程と、
粒状物と液体との混合物を前記中空ロッドの噴射口から噴出することにより、前記改良対象層内に透水性の粒状層を造成する造成工程と、
地表側より真空吸引用パイプを前記粉状層まで貫入するとともに、前記パイプに接続された真空ポンプの駆動により前記改良対象層内に保留されている間隙水等を前記粒状層及びパイプを通じて地表側に吸引して排出する排液工程と
を経ることを特徴とする地盤改良工法。
IPC (2件):
FI (3件):
E02D3/10 104
, E02D3/10 102
, E02D27/34 A
Fターム (7件):
2D043CA04
, 2D043CB08
, 2D043DA01
, 2D043EA01
, 2D043EB04
, 2D043EB06
, 2D046DA11
引用特許:
出願人引用 (2件)
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実公昭63-823号公報
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真空圧密による地盤改良工法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-040720
出願人:株式会社間組, 青山機工株式会社
審査官引用 (4件)
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特開昭51-082911
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汚染地盤の浄化処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-349916
出願人:鹿島建設株式会社, ケミカルグラウト株式会社
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地盤の改良工法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-077243
出願人:みらい建設工業株式会社, チカミミルテック株式会社, キャドテック株式会社
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