特許
J-GLOBAL ID:200903069666425133
汚染地盤の浄化処理方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
高橋 敏忠 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-349916
公開番号(公開出願番号):特開2001-162262
出願日: 1999年12月09日
公開日(公表日): 2001年06月19日
要約:
【要約】【課題】 汚染地盤を処理費用が嵩まず、また長期間を要せずに浄化することができる汚染地盤の浄化処理方法を提供する。【解決手段】 地中の汚染地盤(D)内の所定深さまで削孔する削孔工程と、その削孔(h1)内にウォータージェット装置(2)を挿入してウォータージェット(J)によって水を還流する水噴射工程と、水の還流によって汚染物質(d)を地上に排出除去する汚染物質排出工程と、透水材料を噴射して置換する透水材料置換工程とによって汚染地盤(D)を浄化する。
請求項(抜粋):
汚染物質が深部の難透水層まで侵入した場合の汚染地盤の浄化処理方法であって、地中の汚染地盤内の所定深さまで削孔する削孔工程と、その削孔内にウォータージェット装置を挿入してウォータージェットによって水を還流する水噴射工程と、水の還流によって汚染物質を地上に排出除去する汚染物質排出工程と、さらにウォータージェット装置によって透水材料を噴射し透水材料と置換する透水材料置換工程とを有することを特徴とする汚染地盤の浄化処理方法。
IPC (2件):
B09C 1/04 ZAB
, E02D 3/00
FI (2件):
E02D 3/00
, B09B 5/00 ZAB S
Fターム (21件):
2D043CA01
, 2D043CA20
, 2D043CB08
, 2D043EA01
, 2D043EB06
, 4D004AA41
, 4D004AB02
, 4D004AB03
, 4D004AB05
, 4D004AC07
, 4D004CA01
, 4D004CA12
, 4D004CA40
, 4D004CA50
, 4D004CB42
, 4D004CB43
, 4D004CB44
, 4D004CB45
, 4D004CB50
, 4D004CC03
, 4D004CC11
引用特許:
審査官引用 (4件)
-
汚染土の除去方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-108834
出願人:株式会社大林組
-
汚染物質除去方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-137040
出願人:ゼロックスコーポレイション
-
特開平3-202586
-
汚染土壌浄化方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-091489
出願人:キヤノン株式会社, ライト工業株式会社
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