レチクルローダ機構

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-279060
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121331
出願日： 1997年10月13日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】縮小投影露光装置におけるレチクルローダ機構において、レチクル16と載置面14aとの間に介在する異物に起因する装填されるレチクル16の光軸に対する傾きを防止する。【解決手段】レチクルステージ14の載置面14aと載置面14aに対応するレチクル16の下面の部分とを拭き清掃する洗浄ユニット1を設け、レチクル16をレチクルステージに装填する前にに付着している異物を除去している。

請求項（抜粋）：

露光装置の鏡筒内にレチクルを搬送しレチクルステージの載置面に前記レチクルを載置する移載機構を備えるレチクルローダ機構において、前記鏡筒内に挿入され前記載置面を拭き清掃するとともに前記鏡筒外に停留して前記移載機構により搬送される前記レチクルの下面の前記載置面に対応する両側部分を拭き清掃する異物除去部をもつワイパ部材を具備する洗浄ユニットを備えることを特徴とするレチクルローダ機構。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 F , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (1件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-053017 出願人：富士通株式会社

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