特許
J-GLOBAL ID:200903007561767335

ガラス基板洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 哲也 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-178566
公開番号(公開出願番号):特開平7-014810
出願日: 1993年06月28日
公開日(公表日): 1995年01月17日
要約:
【要約】【目的】 動作効率を高めるとともに、洗浄されたガラス基板の再汚染を防止する。【構成】 水平な状態で受け渡されるガラス基板の表面を検査する表面検査手段9、垂直な状態で受け渡されるガラス基板Pを洗浄する洗浄手段、および少なくとも前記表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送して受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置において、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を垂直に保持する保持部17〜20をそれぞれ有するとともにガラス基板の並列処理が可能なように制御され得る複数の洗浄部5〜8を有するものであり、ガラス基板搬送手段1〜3は、ガラス基板をガラス基板の端部において保持するとともに、そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水平からほぼ垂直まで自在に制御可能であることを特徴とするガラス基板洗浄装置。
請求項(抜粋):
水平な状態で受け渡されるガラス基板の表面を検査する表面検査手段、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を洗浄する洗浄手段、および少なくとも前記表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送して受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置において、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を垂直に保持する保持部をそれぞれ有するとともにガラス基板の並列処理が可能なように制御され得る複数の洗浄部を有するものであり、ガラス基板搬送手段は、ガラス基板をガラス基板の端部において保持するとともに、そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水平からほぼ垂直まで自在に制御可能なものであることを特徴とするガラス基板洗浄装置。
IPC (5件):
H01L 21/304 341 ,  B08B 11/04 ,  B65G 49/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 1/08
引用特許:
審査官引用 (6件)
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