特許

J-GLOBAL ID：200903007581379544

酸化反応用触媒

発明者： 櫻井 陽子 ,  田代 貴之
出願人/特許権者： 三洋化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-141590
公開番号（公開出願番号）：特開2009-285583
出願日： 2008年05月29日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：

【課題】 長期にわたり反応活性を維持し、安定的に使用可能である触媒を提供する。【解決手段】 ヘテロポリ酸又はその塩(A)、並びにイミダゾリウムイオン、イミダゾリウム及びピリミジニウムイオンをカチオンとし、リン酸アニオン、アルキルリン酸アニオン、カルボキシルアニオン、ホウ酸アニオン及びアルキルホウ酸アニオンから選ばれる少なくとも1種類のアニオンからなる塩(B)からなる酸化反応用触媒を用いる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ヘテロポリ酸及び/又はその塩(A)、並びにカチオン成分がイミダゾリニウムイオン、イミダゾリウムイオンおよびピリミジニウムイオンからなる群から選ばれる1種以上であり、アニオン成分がリン酸アニオン、アルキルリン酸アニオン、カルボキシルアニオン、ホウ酸アニオンおよびアルキルホウ酸アニオンから選ばれる1種以上の組合せである塩(B)を必須成分とする酸化反応用触媒。

IPC (5件)：

B01J 31/22 ,  B01J 31/26 ,  C07B 61/00 ,  C07D 301/12 ,  C07D 301/06

FI (5件)：

B01J31/22 Z ,  B01J31/26 Z ,  C07B61/00 300 ,  C07D301/12 ,  C07D301/06

Fターム (40件)：

4G169AA03 ,  4G169AA06 ,  4G169BA02B ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA28A ,  4G169BA28B ,  4G169BB07A ,  4G169BB07B ,  4G169BB20A ,  4G169BC01A ,  4G169BC08A ,  4G169BC17A ,  4G169BC31A ,  4G169BC33A ,  4G169BC54A ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BD01A ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169BE08A ,  4G169BE16A ,  4G169BE16B ,  4G169BE25A ,  4G169BE25B ,  4G169BE35A ,  4G169CB07 ,  4G169CB73 ,  4G169DA05 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB17 ,  4G169FB31 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 低級脂肪族カルボン酸エステル製造用触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を用いた低級脂肪族カルボン酸エステルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-271415   出願人：昭和電工株式会社
• オキシラン化合物およびジオール化合物の製造方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-166229   出願人：日産化学工業株式会社