薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：奥田誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-149687
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342058
出願日： 2002年05月23日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】第2相を構成する粒子の硬度およびイオンビームエッチング速度と第1相を構成する粒子の硬度およびイオンビームエッチング速度とをほぼ同じにすることによって、優れた加工性を備える薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料を提供する。【解決手段】本発明の薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料は、24〜75mol%の第1相および残部の第2相を含む。前記第1相はAl2O3からなる。前記第2相は、組成式(MaM’b)(CxOyNz)(Mは、Nb、Cr、Mo、W、VおよびTaのなかから選ばれる少なくとも一種の元素、M’は、Ti、ZrおよびHfのなかから選ばれる少なくとも一種の元素、a+b=1、b≦0.2、x+y+z=1、0.5≦x≦0.995、0.005≦y≦0.30、0≦z≦0.20)で表される化合物からなる。

請求項（抜粋）：

24〜75mol%の第1相および残部の第2相を含む薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料であって、前記第1相はAl2O3からなり、前記第2相は、組成式(MaM’b)(CxOyNz)(Mは、Nb、Cr、Mo、W、VおよびTaのなかから選ばれる少なくとも一種の元素、M’は、Ti、ZrおよびHfのなかから選ばれる少なくとも一種の元素、a+b=1、b≦0.2、x+y+z=1、0.5≦x≦0.995、0.005≦y≦0.30、0≦z≦0.20)で表される化合物からなる薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料。

IPC (2件)：

C04B 35/10 , G11B 5/31

FI (2件)：

G11B 5/31 G , C04B 35/10 E

Fターム (28件)：

4G030AA08 , 4G030AA11 , 4G030AA12 , 4G030AA14 , 4G030AA16 , 4G030AA17 , 4G030AA18 , 4G030AA19 , 4G030AA20 , 4G030AA21 , 4G030AA22 , 4G030AA23 , 4G030AA24 , 4G030AA45 , 4G030AA49 , 4G030BA13 , 4G030BA19 , 4G030CA01 , 4G030GA03 , 4G030GA04 , 4G030GA05 , 4G030GA08 , 4G030GA11 , 4G030GA22 , 4G030GA24 , 4G030GA29 , 5D033BA52 , 5D033CA00

引用特許：

出願人引用 (4件)

磁気ヘッド用基板材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-011660 出願人：日本タングステン株式会社, 住友特殊金属株式会社
特開平2-034557
磁気ヘッド用基板材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-051623 出願人：住友特殊金属株式会社, 日本タングステン株式会社

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審査官引用 (5件)

磁気ヘッド用基板材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-011660 出願人：日本タングステン株式会社, 住友特殊金属株式会社
特開平2-034557
特開平2-034557

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