光重合性組成物、ネガ型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-236680
公開番号（公開出願番号）：特開2000-063451
出願日： 1998年08月24日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】光重合性組成物、ネガ型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記した構成単位【化5】(式中、Aはポリイソシアネート化合物に由来する残基、Bは同一もしくは異なってそれぞれの分子末端に1個以上の光重合性不飽和基を有するヒドロキシ化合物に由来する残基及びR1はカルボキシル基含有ポリオール化合物に由来する残基を示す。nは1〜10整数を示す。)を有する光重合性ポリウレタン化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

請求項（抜粋）：

下記した構成単位【化1】(式中、Aはポリイソシアネート化合物に由来する残基、Bは同一もしくは異なってそれぞれの分子末端に2個以上の光重合性不飽和基を有するヒドロキシ化合物に由来する残基及びR1はカルボキシル基含有ポリオール化合物に由来する残基を示す。nは1〜10整数を示す。)を有する光重合性ポリウレタン化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

IPC (4件)：

C08F290/06 , C08F 2/48 , G03F 7/027 513 , G03F 7/40 521

FI (4件)：

C08F290/06 , C08F 2/48 , G03F 7/027 513 , G03F 7/40 521

Fターム (89件)：

2H025AA06 , 2H025AB15 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC14 , 2H025BC66 , 2H025FA17 , 2H096AA26 , 2H096BA05 , 2H096EA04 , 2H096GA09 , 4J011AC04 , 4J011QA02 , 4J011QA03 , 4J011QA07 , 4J011QA13 , 4J011QA17 , 4J011QA18 , 4J011QA19 , 4J011QA23 , 4J011QA24 , 4J011QA25 , 4J011QB16 , 4J011QB20 , 4J011QB23 , 4J011RA03 , 4J011RA07 , 4J011RA10 , 4J011SA02 , 4J011SA06 , 4J011SA07 , 4J011SA22 , 4J011SA32 , 4J011SA33 , 4J011SA52 , 4J011SA62 , 4J011SA63 , 4J011SA64 , 4J011SA74 , 4J011SA76 , 4J011SA78 , 4J011SA79 , 4J011SA88 , 4J011UA01 , 4J011UA02 , 4J011UA03 , 4J011VA01 , 4J011WA01 , 4J011WA02 , 4J011WA06 , 4J027AC03 , 4J027AC06 , 4J027AE01 , 4J027AG01 , 4J027AG04 , 4J027AG12 , 4J027AG13 , 4J027AG14 , 4J027AG15 , 4J027AG23 , 4J027AG24 , 4J027AG27 , 4J027AG32 , 4J027AG34 , 4J027AJ02 , 4J027BA01 , 4J027BA03 , 4J027BA06 , 4J027BA10 , 4J027BA18 , 4J027BA19 , 4J027BA20 , 4J027BA21 , 4J027BA26 , 4J027BA27 , 4J027CA03 , 4J027CA04 , 4J027CA06 , 4J027CA08 , 4J027CA10 , 4J027CA25 , 4J027CB10 , 4J027CC04 , 4J027CC05 , 4J027CC06 , 4J027CC07 , 4J027CD08 , 4J027CD09 , 4J027CD10

引用特許：

審査官引用 (7件)

放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-310770 出願人：日本化薬株式会社
樹脂組成物の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-026131 出願人：日本合成化学工業株式会社
樹脂組成物の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-033284 出願人：日本合成化学工業株式会社

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