特許
J-GLOBAL ID：200903007632862865

含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法

発明者：
入江 真樹子

入江 真樹子 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-120320
公開番号（公開出願番号）：特開2008-274143
出願日： 2007年04月27日
公開日（公表日）： 2008年11月13日
要約：
【課題】露光後加熱後には親水性となるような液浸露光用として好適な疎水性と、良好なリソグラフィー特性とを有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物に好適な含フッ素高分子化合物、該含フッ素高分子化合物を含有するレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】R2O基がエチルアルコール残基の1位に置換したエチル(メタ)アクリレートのみを重合して得られる含フッ素高分子化合物。但し、R2はフッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基、又はフッ素原子で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基の複数個がヘテロ原子を含む連結基を介して結合した基である。R2において、フッ素原子で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基の複数個がヘテロ原子を含む連結基を介して結合する場合、該フッ素原子で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基の少なくとも1つはフッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(c1-0)で表される重合性単量体のみを重合して得られる含フッ素高分子化合物。
IPC (4件)：
C08F 120/22 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F120/22 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (16件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA04P ,  4J100BB07P ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (2件)

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