特許

J-GLOBAL ID：200903007775750758

硬X線発生方法および装置

発明者： 田中 和夫 ,  クマール,ジー.ラヴィンドラ ,  クリシュナマーシー,エム. ,  アナンド,エム. ,  サンドゥー,エー.エス. ,  児玉 了祐 ,  近藤 公伯
出願人/特許権者： 関西ティー・エル・オー株式会社
代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-162188
公開番号（公開出願番号）：特開2005-346962
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：

【課題】 低強度レーザ光を用いて硬X線を発生すること。【解決手段】 容器3内の真空室2に、メタノールまたは水などの液滴4を滴下し、この液滴4をターゲットとして、1×1014〜1×1017W/cm2のパルス状レーザ光6を照射する。レーザ光のパルス幅5×10-15〜100×10-12secであり、レーザ光の波長0.5〜11μmであり、液滴4の直径0.5〜50μmφである。真空室2は10-3×10-5Torrである。レーザ光は液滴内で全反射し、50〜200keVの高速電子を有するプラズマを形成し、0.1MeV〜1GeVの指向性を有する硬X線が発生される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

1×1014〜1〜1017W/cm2のパルス状レーザ光を、液滴に照射して、そのレーザ光を液滴内で全反射させてプラズマを形成することによって、硬X線を発生する方法。

IPC (2件)：

H05G2/00 ,  G21K5/08

FI (2件)：

H05G1/00 K ,  G21K5/08 X

Fターム (5件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB21 ,  4C092AC01 ,  4C092AC08