特許

J-GLOBAL ID：200903007787358900

珪素含有新規アクリル化合物

発明者： 福井 俊巳 ,  小畠 邦規 ,  土岐 元幸 ,  近藤 治
出願人/特許権者： 株式会社KRI ,  三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 岡崎 豊野
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-282850
公開番号（公開出願番号）：特開2004-115460
出願日： 2002年09月27日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】真空紫外域での高い透光性と酸素ガスプラズマへの高い耐性を有する樹脂化合物原料を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されることを特徴とする珪素含有新規アクリル化合物。【化1】(式中、R1、R2、R3は、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又は炭素数1〜20のフッ素化されたアルキル基である。R4は、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基である。Rは、珪素含有基である。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されることを特徴とする珪素含有新規アクリル化合物。

IPC (5件)：

C07F7/08 ,  C07F7/21 ,  C08G77/20 ,  C08G77/60 ,  G03F7/075

FI (6件)：

C07F7/08 K ,  C07F7/08 X ,  C07F7/21 ,  C08G77/20 ,  C08G77/60 ,  G03F7/075 511

Fターム (32件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  4H049VN01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ76 ,  4H049VQ79 ,  4H049VQ85 ,  4H049VR21 ,  4H049VR24 ,  4H049VR43 ,  4H049VU20 ,  4H049VU36 ,  4J035AA03 ,  4J035AB02 ,  4J035AB06 ,  4J035LB16 ,  4J100AL08P ,  4J100BA75P ,  4J100BB07P ,  4J100BB10P ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 反射防止膜材料およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-300650   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• 反射防止膜材料およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-300650   出願人：信越化学工業株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Chemical Abstracts, 1995, Vol.123, p.18-p.19

審査官引用 (2件)

• Chemical Abstracts, 1995, Vol.123, p.18-p.19
• Chemical Abstracts, 1995, Vol.123, p.18-p.19