特許
J-GLOBAL ID:200903007793825447

有機高分子ゲルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 赤塚 賢次 ,  福田 保夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-182847
公開番号(公開出願番号):特開2005-015649
出願日: 2003年06月26日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】メソ孔やミクロ孔が発達しており、炭化処理した際の残炭率が高い有機高分子ゲルを安価に製造する方法を提供すること。【解決手段】フェノール類化合物とアルデヒド類化合物とを水溶媒中でゾル-ゲル法により重合させて有機ヒドロキシゲルを合成するゲル化工程、及び、前記有機ヒドロキシゲルを低体積変化率乾燥法により乾燥する乾燥工程を有する有機高分子ゲルの製造方法。前記ゲル化工程において、前記水溶媒を前記フェノール類化合物及び前記アルデヒド類化合物の合計量1重量部に対して10〜60重量部用いることが好ましい。また、前記フェノール類化合物が、フェノール性水酸基を1分子あたり1個有することが好ましい。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
フェノール類化合物とアルデヒド類化合物とを水溶媒中でゾル-ゲル法により重合させて有機ヒドロキシゲルを合成するゲル化工程、及び、前記有機ヒドロキシゲルを低体積変化率乾燥法により乾燥する乾燥工程を有することを特徴とする有機高分子ゲルの製造方法。
IPC (2件):
C08G8/04 ,  B01J20/26
FI (2件):
C08G8/04 ,  B01J20/26 A
Fターム (24件):
4G066AB05A ,  4G066AB06A ,  4G066AC25B ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA28 ,  4G066DA02 ,  4G066DA08 ,  4G066FA07 ,  4G066FA09 ,  4G066FA21 ,  4G066FA31 ,  4G066FA37 ,  4J033CA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA05 ,  4J033CA11 ,  4J033CA12 ,  4J033CB02 ,  4J033CB27 ,  4J033CC01 ,  4J033CD06 ,  4J033HA13 ,  4J033HB00
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
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