特許
J-GLOBAL ID:200903007822008194
X線撮像装置及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-202342
公開番号(公開出願番号):特開2002-022837
出願日: 2000年07月04日
公開日(公表日): 2002年01月23日
要約:
【要約】【課題】 蛍光体による発光が隣接画素に侵入するのを防止することができ、解像度の向上に寄与する。【解決手段】 ガラス基板10上に、信号電荷を蓄積するキャパシタ30とこのキャパシタ30から信号電荷を読み出すTFT20からなる単位画素をマトリックス状に配置してなるアレイ基板と、このアレイ基板上に各画素のキャパシタ30に電気的に接続するように設けられ、光を電気信号に変換する光電変換膜106と、光電変換膜106上に設けられ、X線を光に変換する蛍光体膜102とを備えたX線撮像装置において、蛍光体膜102は画素毎に分離され、隣接する画素間にX線を反射する反射部材103が埋め込み形成されている。
請求項(抜粋):
基板上に、信号電荷を蓄積する信号蓄積部と蓄積された信号電荷を読み出す信号読み出し部からなる単位画素をマトリックス状に配置してなるアレイ基板と、このアレイ基板上に前記各画素の信号蓄積部に電気的に接続するように設けられ、光を電気信号に変換する光電変換膜と、この光電変換膜上に設けられ、X線を光に変換する蛍光体膜とを備えたX線撮像装置であって、前記蛍光体膜は画素毎に分離され、隣接する画素間にX線を反射又は吸収する部材が埋め込み形成されてなることを特徴とするX線撮像装置。
IPC (3件):
G01T 1/20
, H01L 31/09
, G21K 4/00
FI (4件):
G01T 1/20 E
, G01T 1/20 B
, G21K 4/00 A
, H01L 31/00 A
Fターム (30件):
2G083AA02
, 2G083AA10
, 2G083BB01
, 2G083CC02
, 2G083CC10
, 2G083DD20
, 2G083EE02
, 2G088EE02
, 2G088FF02
, 2G088GG13
, 2G088GG19
, 2G088GG20
, 2G088GG21
, 2G088JJ05
, 2G088JJ29
, 2G088JJ37
, 5F088AA03
, 5F088AA20
, 5F088AB05
, 5F088BA20
, 5F088BB03
, 5F088BB07
, 5F088EA04
, 5F088EA08
, 5F088EA13
, 5F088EA14
, 5F088HA15
, 5F088KA03
, 5F088KA08
, 5F088LA08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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X線画像検出器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-004667
出願人:株式会社東芝
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特開昭62-086857
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放射線2次元検出器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-213186
出願人:株式会社島津製作所, 日本放送協会
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