吸着装置およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-125065
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335731
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】本発明は半導体製造プロセスにおいてウェーハを静電力、電磁力、真空の吸引力を利用して吸着保持する吸着装置およびその製造方法に関し、吸着される被吸着体に対する熱的悪影響を低減することを目的とする。【構成】ウェーハ20を吸着固定する構成とされており、上記ウェーハ20と接触可能であり所定の熱膨張係数を有するセラミック板11と、このセラミック板11を装着し、該セラミック板11と異なる熱膨張係数を有する金属製のベース12と、この金属製のベース12と上記セラミック板11とを接着する接着部13と、を有した吸着装置において、上記接着部13が上記セラミック板11の熱膨張係数と上記金属製のベース12の熱膨張係数との差による該セラミック板11の機械的熱的応力を緩和するようにゲル状に固化される。

請求項（抜粋）：

被吸着体(20)と接触可能であり所定の熱膨張係数を有するセラミック板(11)と、このセラミック板(11)を支持し、該セラミック板(11)と異なる熱膨張係数を有する金属製のベース(12)と、この金属製のベース(12)と上記セラミック板(11)とを接着する接着部(13)と、を備え、上記被吸着体(20)を吸着固定する構成とされた吸着装置において、上記接着部(13)をゲル状に固化した状態を有する構成としたことを特徴とする吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B23Q 3/08 , H02N 13/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-287344
静電チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-013923 出願人：京セラ株式会社
特開平3-227554

全件表示

前のページに戻る