特許

J-GLOBAL ID：200903007924482877

X線顕微鏡及びX線発生装置

発明者： 広瀬 秀男 ,  原 民夫 ,  安藤 剛三 ,  青柳 克信
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所 ,  理化学研究所
代理人 (1件)： 竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-005477
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194100
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 飛散微粒子の放出を阻止して、試料をX線源に接近して配置させることができるX線顕微鏡及び飛散微粒子の放出を阻止することができるX線発生装置を提供する。【構成】 X線顕微鏡において、ターゲット材11の少なくとも片面側に間隔を開けて、X線発生工程に伴う作用によって破損が生じない程度の厚さのX線透過膜12を設け、該ターゲット材11にレーザビーム30を照射することによってX線を発生するX線発生装置1を構成し、試料20を該X線発生装置1のX線透過膜側に近接して配置し、試料20を透過したX線によりX線像を検出することによって、飛散微粒子の放出を阻止して、試料をX線源に接近して配置させることができるX線顕微鏡を構成する。

請求項（抜粋）：

X線顕微鏡において、ターゲット材の少なくとも片面側に間隔を開けて、X線発生工程に伴う作用によって破損が生じない程度の厚さのX線透過膜を設け、該ターゲット材にレーザビームを照射することによってX線を発生するX線発生装置を備え、試料を該X線発生装置のX線透過膜側に近接して配置し、試料を透過したX線によりX線像を検出することを特徴とするX線顕微鏡。

IPC (3件)：

G21K 7/00 ,  G21K 5/02 ,  H05G 1/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-022600
  
• X線リソグラフィー装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-269912   出願人：理化学研究所
• 特開平2-022600