特許
J-GLOBAL ID:200903007941760210
LiCoO2の堆積
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
平木 祐輔
, 石井 貞次
, 藤田 節
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-218906
公開番号(公開出願番号):特開2008-045213
出願日: 2007年08月24日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】パルスdc物理気相堆積プロセスにより、固体再充電可能Li電池のカソード層として利用しうるLiCoO2膜の低温高速度堆積方法を提供する。【解決手段】LiCoO2層を堆積する前に、基板16を約200°Cまでの温度に予備加熱する。次にLiCoO2を含むスパッタターゲット12にパルスDC電力を印加し、ターゲット12と対向する位置に配置された基板16上にLiCoO2層を形成する。さらに、短時間の急速熱アニールプロセスを行う。【選択図】図1
請求項(抜粋):
反応器内に基板を配置することと、
少なくとも不活性ガスを該反応器内に通して流動させることと、
LiCoO2を含むスパッターターゲットにパルスDC電力を印加することと、
該ターゲットを該基板に対向するように位置決めすることと、
LiCoO2の層を該基板上に形成させることと、
該基板およびLiCoO2層に急速熱アニールを適用することと、
を含む、LiCoO2層の堆積方法。
IPC (8件):
C23C 14/08
, C23C 14/58
, H01M 4/52
, H01M 4/66
, H01M 4/02
, H01M 10/36
, C23C 14/02
, C23C 14/34
FI (10件):
C23C14/08 K
, C23C14/58 A
, H01M4/52 102
, H01M4/66 A
, H01M4/02 102
, H01M10/00 107
, H01M10/00 117
, H01M10/00 102
, C23C14/02
, C23C14/34 S
Fターム (72件):
4K029AA06
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA50
, 4K029BC03
, 4K029CA05
, 4K029CA13
, 4K029DC05
, 4K029DC34
, 4K029DC40
, 4K029DC46
, 4K029EA02
, 4K029EA08
, 4K029FA06
, 4K029GA01
, 5H017AA03
, 5H017AS01
, 5H017BB16
, 5H017BB19
, 5H017CC01
, 5H017EE01
, 5H017HH05
, 5H029AJ01
, 5H029AJ14
, 5H029AK03
, 5H029AL12
, 5H029AM12
, 5H029BJ04
, 5H029BJ12
, 5H029CJ02
, 5H029CJ24
, 5H029CJ28
, 5H029CJ30
, 5H029DJ07
, 5H029DJ16
, 5H029DJ17
, 5H029EJ01
, 5H029EJ03
, 5H029EJ05
, 5H029EJ06
, 5H029EJ08
, 5H029EJ12
, 5H029HJ05
, 5H029HJ12
, 5H029HJ13
, 5H029HJ14
, 5H029HJ20
, 5H050AA01
, 5H050AA19
, 5H050BA16
, 5H050BA17
, 5H050CA08
, 5H050CB12
, 5H050DA04
, 5H050DA06
, 5H050FA02
, 5H050FA17
, 5H050FA18
, 5H050FA19
, 5H050GA02
, 5H050GA24
, 5H050GA27
, 5H050GA28
, 5H050GA29
, 5H050GA30
, 5H050HA05
, 5H050HA12
, 5H050HA13
, 5H050HA14
, 5H050HA17
, 5H050HA20
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
米国特許出願公開第2002/001747号明細書
-
米国特許出願公開第2001/0032666号明細書
-
米国特許出願公開第2002/0001746号明細書
審査官引用 (8件)
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