高活性光触媒の製造方法及びその高活性光触媒を用いた硫化水素の処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：舘野千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-112293
公開番号（公開出願番号）：特開2002-306966
出願日： 2001年04月11日
公開日（公表日）： 2002年10月22日
要約：

【要約】【課題】硫化水素に作用して硫黄と水素を発生させる高活性光触媒を得る。【解決手段】硫化亜鉛等の金属硫化物を酸化性雰囲気または所定の酸化剤で酸化処理することで高活性光触媒が得られる。この高活性光触媒を用いた硫化水素の処理方法は、硫化水素溶解槽1にて例えば水酸化ナトリウム水溶液に硫化水素ガスを溶解させ硫化ナトリウム溶液とする硫化水素溶解工程と、光触媒反応槽3にて硫化ナトリウム溶液に高活性光触媒を添加して紫外線照射により水素ガスとポリ硫化物イオンを生成し、水素ガスを回収する水素回収工程と、硫黄回収槽5にてポリ硫化物イオンから硫黄を回収し、硫黄回収後の溶液を硫化水素溶解工程に再利用するべく硫化水素溶解槽1に再循環する硫黄回収工程とで構成される。

請求項（抜粋）：

金属硫化物を酸化性雰囲気中で焼成してなることを特徴とする高活性光触媒の製造方法。

IPC (6件)：

B01J 27/04 , B01J 35/02 , B01J 37/12 , B01J 37/14 , C01B 3/04 , C01B 17/04

FI (6件)：

B01J 27/04 M , B01J 35/02 J , B01J 37/12 , B01J 37/14 , C01B 3/04 Z , C01B 17/04 R

Fターム (15件)：

4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA48A , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BB09A , 4G069BB09B , 4G069BC35A , 4G069BC35B , 4G069BC36A , 4G069BC37A , 4G069CB81 , 4G069FA01 , 4G069FB40 , 4G069FB41

引用特許：

審査官引用 (5件)

特公平2-055373
新規なZnS光触媒,その製法およびそれを用いた水素の製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-517407 出願人：コリアリサーチインスティテュートオブケミカルテクノロジー
特公平3-068847

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