特許

J-GLOBAL ID：200903008009743274

加熱装置

発明者： 保坂 英二 ,  開発 秀樹 ,  吉田 久志
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-324115
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183243
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】半導体製造工程において用いられる熱反応炉等の加熱装置において、発熱体(ヒータ)素線の組み立てが極めて容易であり、かつ短時間に作製することができる経済的で高性能の加熱装置を提供する。【構成】螺旋状に巻かれた発熱体素線の複数の各円環部を各々外側から嵌脱可能に支持する構造の素線支持棚を用い、この素線支持棚を、螺旋状に巻かれた発熱体素線の周囲方向に複数個配設して発熱体素線の円環部を支持固定する構成とした熱反応炉の加熱装置。【効果】熱反応炉の加熱装置の組み立て時間を大幅に短縮でき、電熱体素線の膨張、収縮等の変形による崩れや暴れの問題を吸収することができ、経済的で信頼性の高い加熱装置を容易に実現できる。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程において用いられる熱反応炉の加熱装置において、該加熱装置は、縦方向に螺旋状に巻かれた発熱体素線の複数の各円環部を各々外側から嵌脱自在に支持する構造の素線支持棚を用い、該素線支持棚を上記発熱体素線の周囲方向に複数個配設して上記螺旋状に巻かれた発熱体素線を支持固定する構成としたことを特徴とする熱反応炉の加熱装置。

IPC (2件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-219050   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社