特許
J-GLOBAL ID：200903008029316879
ポリイミド洗浄用溶剤
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-332907
公開番号（公開出願番号）：特開平8-165495
出願日： 1994年12月15日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造工業などにおいて、ポリイミド前駆体溶液を基板に塗布して保護膜、絶縁膜などを製造する際に、ポリイミド前駆体溶液を塗布した基板の周辺部、縁辺部および裏面部に付着した不要のポリイミド前駆体を除くために使用でき、且つ毒性の少ないポリイミド洗浄用溶剤を開発する。【構成】 (A)N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミドなどから選ばれる溶剤を40重量%以上含有し、残りが(B)プロピレングリコールモノアルキルエーテル系溶剤、ブチレングリコールモノアルキルエーテル系溶剤、エステル系溶剤などから選ばれる溶剤であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
(A)N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドから選ばれる少なくとも1種の溶剤を÷0重量%以上含有し、残りが(B)プロピレングリコールモノアルキルエーテル系溶剤、ブチレングリコールモノアルキルエーテル系溶剤、ペンタングリコールモノアルキルエーテル系溶剤、エステル系溶剤から選ばれる少なくとも1種の溶剤であることを特徴とするポリイミド洗浄用溶剤。
IPC (5件)：
C11D 7/50
, C08G 73/10
, C11D 7/26
, C11D 7/32
, H01L 21/304 341
