特許
J-GLOBAL ID:200903008047785983

プラズマディスプレイパネル基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 武 顕次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-144149
公開番号(公開出願番号):特開平9-326232
出願日: 1996年06月06日
公開日(公表日): 1997年12月16日
要約:
【要約】【課題】 ガラス基板上に形成された電極とリブの間の寸法バラツキの発生を防止すること。【解決手段】 (イ)基板上に形成されたパタ-ン化電極の上に、感光性レジスト膜を形成する工程、(ロ)前記感光性レジスト膜を、前記パタ-ン化電極をマスクにしてパタ-ン化する工程、(ハ)前記パターン化して感光性レジスト膜の除去された部分に無機ペ-ストを充填する工程、(ニ)感光性レジスト膜を除去する工程、を順次施すプラズマディスプレイパネル基板の製造方法。また、感光性無機ペースト膜を、パターン化電極そのものをマスクにして露光、現像して、リブを形成すること。更に、感光性ペースト反応拡散膜と拡散型無機ペースト膜を使用してリブを形成すること。
請求項(抜粋):
(イ)基板上に形成されたパタ-ン化電極の上に、感光性レジスト膜を形成する工程、(ロ)前記感光性レジスト膜を、前記パタ-ン化電極をマスクにしてパタ-ン化する工程、(ハ)前記パターン化して感光性レジスト膜の除去された部分に無機ペ-ストを充填する工程、(ニ)感光性レジスト膜を除去する工程、を順次施すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル基板の製造方法。
IPC (3件):
H01J 9/02 ,  G09F 9/313 ,  H05B 33/10
FI (3件):
H01J 9/02 F ,  G09F 9/313 E ,  H05B 33/10
引用特許:
審査官引用 (6件)
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