特許

J-GLOBAL ID：200903008049359965

基板処理装置

発明者： 稲垣 幸彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-312842
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153538
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】 各処理部に引き渡す基板の向きを全て一定に揃えることが可能な基板処理装置を提供することである。【解決手段】 基板処理装置は、処理部の一つとして周辺露光装置20を備える。周辺露光装置20は、基板を回転保持する基板保持台22と、基板の周縁位置を検出するエッジセンサ30とを備える。周辺露光装置20に供給される基板は、基板の回転基準部が全て同じ向きに揃うように位置補正された後、周辺露光装置20から取り出され、他の処理部に供給される。これにより、基板処理装置の内部では、全ての基板の回転基準部の位置が同一となるように制御される。

請求項（抜粋）：

基板に対してそれぞれ所定の処理を行なう複数の基板処理部を有し、前記各基板処理部との間で前記基板の受け渡しを行いながら前記基板に一連の処理を行なう基板処理装置において、前記各基板処理部に供給する際の前記基板の回転基準部を特定の向きに揃えるための補正手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B24B 51/00 ,  G01B 21/22 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

H01L 21/68 M ,  B24B 51/00 ,  G01B 21/22 ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 577

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 回転処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-289626   出願人：株式会社日立製作所
• 縮小投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-176148   出願人：日本電気株式会社