特許
J-GLOBAL ID：200903008081014228
微粒子膜の形成方法、その方法により得られたマイクロ電極と電子装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
須藤 阿佐子
, 須藤 晃伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-186898
公開番号（公開出願番号）：特開2008-012448
出願日： 2006年07月06日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【課題】有機溶媒を不使用ないしは殆ど使用することなく、常温の大気中で高い生産性をもって所望のパターンの微粒子膜を製造できる塗布技術の提供。【解決手段】超臨界状態の二酸化炭素流体を用い常温常圧下で微粒子を塗布して被塗布物の表面上に微粒子膜を形成する方法であって、真空状態ないしは真空状態に近い状態とした高圧容器に数十μm以下の微粒子である微粒子を注入し、超臨界状態の二酸化炭素流体を注入し、それらを撹拌して超臨界状態の二酸化炭素を分散媒体とする微粒子の高分散状態になった混合物とし、該混合物をノズルから被塗布物に噴射することで膜を形成する微粒子膜形成工程を有することを特徴とする方法。 前記混合物を被塗布物へ噴射するに際し、超臨界流体の圧力およびノズルと被塗布物の距離を制御することで数十ないし数千m/sの速度で微粒子を噴射することを特徴とする微粒子膜の形成方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
超臨界状態の二酸化炭素流体を用い常温常圧下で微粒子を塗布して被塗布物の表面上に微粒子膜を形成する方法であって、
真空状態ないしは真空状態に近い状態とした高圧容器に数十μm以下の微粒子である微粒子を注入し、超臨界状態の二酸化炭素流体を注入し、それらを撹拌して超臨界状態の二酸化炭素を分散媒体とする微粒子の高分散状態になった混合物とし、該混合物をノズルから被塗布物に噴射することで膜を形成する微粒子膜形成工程を有することを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
4D075AA01
, 4D075AA84
, 4D075AA85
, 4D075BB16X
, 4D075BB29Z
, 4D075BB35Z
, 4D075BB56X
, 4D075CA22
, 4D075CA47
, 4D075DA06
, 4D075DB07
, 4D075DB36
, 4D075DC21
, 4D075EB07
, 4D075EB12
, 4D075EB13
, 4D075EB14
, 4D075EB18
, 4D075EC01
, 4D075EC10
, 4D075EC21
, 4D075EC30
, 4D075EC53
