特許

J-GLOBAL ID：200903008143641283

超純水製造システムの洗浄方法

発明者： 本村 敬人
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 長門 侃二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-133984
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317413
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】 微粒子及び有機物の除去能力に優れ、洗浄液の残留が少なく垂直立上げが可能な超純水製造システムの洗浄方法を提供する。【解決手段】 超純水製造装置2、超純水のユースポイント4、並びに超純水製造装置2とユースポイント4とを接続する超純水の流路6a、6bから成る超純水製造システム1の少なくとも一部を塩基性洗浄液8で洗浄する。

請求項（抜粋）：

超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路から成る超純水製造システムの少なくとも一部を塩基性洗浄液で洗浄することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。

IPC (5件)：

B08B 3/08 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  H01L 21/304 648

FI (7件)：

B08B 3/08 A ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 503 B ,  H01L 21/304 648 K

Fターム (10件)：

3B201AA13 ,  3B201AA33 ,  3B201AA47 ,  3B201AB53 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 超純水製造装置の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-000238   出願人：オルガノ株式会社
• メタル上の異物の除去方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284891   出願人：三菱電機株式会社