特許
J-GLOBAL ID:200903008221932915
利得係数および位置決定システム
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-507586
公開番号(公開出願番号):特表2004-536298
出願日: 2002年06月25日
公開日(公表日): 2004年12月02日
要約:
プローブの位置、方位、およびシステム利得係数を決定するためのシステムは、複数の磁界源および少なくとも1つの磁界センサを含み、1つの磁界センサと1つの磁界源の組合せが特定の測定磁界値を生成するようになっている。このシステムは、利得、位置、および方位が、このような特定の測定磁界値に影響を及ぼすプローブを含む。プロセッサは、このような特定の測定磁界値を受け取り、反復して処理し、それによって、プローブの利得を表すシステム利得係数、およびプローブの位置および方位を表す複数の所在係数を決定するように構成されている。生成される特定の測定磁界値の数は、算出される利得および所在係数の数の総数に少なくとも等しくなければならない。
請求項(抜粋):
プローブの位置、方位、およびシステム利得係数を決定するためのシステムであって、
複数の磁界源と、
1つの磁界センサと1つの磁界源の組合せが特定の測定磁界値を生成する、少なくとも1つの磁界センサと、
利得、位置、および方位が前記特定の測定磁界値に影響を与えるプローブと、
前記特定の測定磁界値を受け取って反復処理するように構成された、前記プローブの利得を表すシステム利得係数と前記プローブの位置および方位を表す複数の所在係数とを決定するためのプロセッサと、を含み、
生成される特定の測定磁界値の数は、算出される利得および所在係数の総数に少なくとも等しいシステム。
IPC (3件):
G01B7/00
, A61B5/07
, G01V3/08
FI (3件):
G01B7/00 R
, A61B5/07
, G01V3/08 E
Fターム (15件):
2F063AA04
, 2F063AA37
, 2F063BA30
, 2F063BD15
, 2F063CA08
, 2F063CA13
, 2F063CC10
, 2F063DA01
, 2F063DA05
, 2F063DD06
, 2F063GA52
, 2F063GA58
, 2F063NA07
, 2F063PA10
, 4C038CC03
引用特許:
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