特許
J-GLOBAL ID:200903008223939127
着色膜パターンの形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-109856
公開番号(公開出願番号):特開平9-297211
出願日: 1996年04月30日
公開日(公表日): 1997年11月18日
要約:
【要約】【課題】 高品質、高性能な、マトリックスパターンと一体化された着色膜パターンを形成する。【解決手段】 基板上(1)に形成したマトリックスパターン(4)に対してレジストパターン(5)を配設し、顔料もしくは染料を用いてプラズマ利用の成膜により着色膜(6)として膜付けし、次いでレジストを剥離して着色膜パターン(7)を得る。
請求項(抜粋):
基板上の形成したマトリックスパターンに対してレジストパターンを配設し、顔料もしくは染料を真空槽内で蒸発させてプラズマを利用した成膜により着色膜を成膜し、次いでレジストを剥離することを特徴とする着色膜パターンの形成方法。
IPC (5件):
G02B 5/20 101
, C23C 14/04
, C23F 1/00 102
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/004 505
FI (5件):
G02B 5/20 101
, C23C 14/04 B
, C23F 1/00 102
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/004 505
引用特許:
審査官引用 (3件)
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硬質カラー薄膜の製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-346490
出願人:村山洋一
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特開昭60-084505
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特開昭60-104901
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