処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-250019
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074168
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】ウエハに対して液処理や熱処理を行う装置を備えた処理システムにおいて,ケミカルフィルタを用いることなくシステム内の有機成分やイオンなどを除去する。【解決手段】処理システム内に形成されたダウンフローの下流側空気をフィルタ装置81の導入部83からケーシング82に導入する。気液接触空間Mにおいて,噴霧装置84から噴霧された純水と前記空気を気液接触させて,空気中の有機成分やイオンなどを除去する。その後エリミネータ91によって気中の液滴が捕集された後,処理済み空気は温湿度調整装置を経て所定の温湿度に設定されて,処理システム内のFFUの上流側に導かれる。

請求項（抜粋）：

被処理基板に対して液処理を行う液処理装置又は熱処理を行う熱処理装置の少なくともいずれか一方の処理装置を備え,さらに清浄な下降気流をシステム内に形成する手段をシステムの上部に備えた処理システムであって,フィルタ装置と温湿度調整装置とを備え,前記フィルタ装置は,ケーシング内に形成された気液接触空間内に前記下降気流の下流側空気を導入する導入部と,前記気液接触空間内に不純物除去液を噴霧する噴霧装置と,前記気液接触空間の下流側に位置して気流中のミストをトラップするミストトラップ機構とを備え,前記温湿度調整装置は,前記フィルタ装置を通過した処理済み空気の温湿度調整を行うように構成され,さらに前記温湿度調整装置によってその温湿度が調整された空気が,前記清浄な下降気流を形成する手段の上流側に導かれるように構成されたことを特徴とする,処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/02 , B01D 46/00 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/02 D , B01D 46/00 E , H01L 21/30 562

引用特許：

出願人引用 (3件)

空気浄化調和装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-223572 出願人：高砂熱学工業株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-332751 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-306250 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (1件)

空気浄化調和装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-223572 出願人：高砂熱学工業株式会社

前のページに戻る