特許

J-GLOBAL ID：200903008291256100

3次元形状計測方法

発明者： 三高 良介 ,  ▲濱▼田 長生
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304086
公開番号（公開出願番号）：特開2001-124534
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】 位相シフト法による3次元計測において、逆正接関数により位相導出を行う際の位相連結の問題を解決する方法を提供する。【解決手段】 1周期以上の正弦波パターンを使用して位相シフト法による計測を行う場合において、正弦波パターンである第1パターンと、その正弦波パターンの位相境界の位置を示すための第2パターンとを併用する。第1パターンは投影装置11により計測対象Tに投影され、また第2パターンはレーザーなどの光源121およびハーフミラー122により成る補助投影装置12により計測対象Tに投影される。

請求項（抜粋）：

光の強度が少なくとも1周期以上に亘る正弦波状に変化し縞状となる第1パターンを計測対象に投影し、前記1周期の縞間隔よりも狭い間隔で前記第1パターンの位相シフトを複数回行い、少なくとも前記位相シフト毎に、前記第1パターンの光の光軸と異なる方向から、前記計測対象の表面形状に応じて変形した前記第1パターンの撮像を行い、前記撮像で得られた複数の画像の同一位置における明度を逆正接関数で演算処理して前記第1パターンの位相を導出し、前記第1パターンの位相境界で発生する不連続を復元して位相の連結を行う各ステップを有し、前記位相シフトの方向に沿った位置に対する前記第1パターンの光の強度が分かるように、前記第1パターンと異なる第2パターンの光を変調して投影し、前記位相の連結の際、前記第2パターンの光の明度変化に応じて、前記第1パターンの位相境界の位置を割り出すことを特徴とする3次元形状計測方法。

IPC (4件)：

G01B 11/25 ,  G01B 11/24 ,  G06T 7/00 ,  G06T 1/00

FI (4件)：

G01B 11/24 E ,  G01B 11/24 K ,  G06F 15/62 415 ,  G06F 15/64 M

Fターム (23件)：

2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065GG02 ,  2F065GG12 ,  2F065HH06 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL25 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  5B047AA07 ,  5B047AB02 ,  5B047BC04 ,  5B047BC09 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057DA20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 三次元形状測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-082587   出願人：株式会社ニデック
• 形状計測方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-224548   出願人：株式会社江川