特許

J-GLOBAL ID：200903008340449670

基板搬送用ローラ、及び、基板処理装置

発明者： 児玉 博
出願人/特許権者： サン・テクノシステム株式会社
代理人 (3件)： 高矢 諭 ,  松山 圭佑 ,  牧野 剛博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-128953
公開番号（公開出願番号）：特開2006-306541
出願日： 2005年04月27日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】ノズルからの噴射液が基板の表面に万遍なく掛かるようにする搬送用ローラの提供。【解決手段】スケルトン構造の円筒状基板支持面42と、該基板支持面42を支える斜めのスポーク44とを備え、前記スポークを交互に反対の斜め方向として、ノズルからの液がより均一に基板にかかるようにしたことを特徴とする基板搬送用ローラ40を用いる。前記基板搬送用ローラを耐熱プラスチック製として、常温での現像、洗浄、酸洗い等から乾燥まで、同じローラを用いて円滑に搬送する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

スケルトン構造の円筒状基板支持面と、 該基板支持面を支える斜めのスポークと、 を備えたことを特徴とする基板搬送用ローラ。

IPC (1件)：

B65G 39/04

FI (1件)：

B65G39/04

Fターム (8件)：

3F033GA06 ,  3F033GB06 ,  3F033GB08 ,  3F033GC03 ,  3F033GC05 ,  3F033GD01 ,  3F033GD05 ,  3F033GE01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• フィルム状ワークの搬送処理装置およびフィルム状ワークの搬送処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-113779   出願人：株式会社フジクラ
• 薄板搬送処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-077926   出願人：イビデン株式会社
• 実用新案登録第3105337号公報
  

審査官引用 (2件)

• 回路基板の処理のための方法及び装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-531036   出願人：アトテックユーエスエー,インコーポレイティド
• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-138363   出願人：日本電池株式会社