特許
J-GLOBAL ID:200903008409983754

前方散乱光による結晶欠陥検出方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 瀧野 秀雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-337555
公開番号(公開出願番号):特開平7-198619
出願日: 1993年12月28日
公開日(公表日): 1995年08月01日
要約:
【要約】【目的】 結晶欠陥で散乱されるレーザービームの散乱光のうちの前方散乱光を利用して結晶欠陥を検出するようにした結晶欠陥検出方法に関し、S/Nがよく、検出精度の高い結晶欠陥検出方法を提供することを目的とする。【構成】 レーザービームBを結晶裏面5から結晶表面2に向けて全反射角以下の所定の入射角θで斜めに入射し、結晶内を透過するレーザービームBの通過経路上に存在する結晶欠陥dからの散乱光を当該レーザービームBの入射面内であって結晶表面側に配置した観測光学系3,4で検出することにより結晶内の結晶欠陥を検出するようにした。
請求項(抜粋):
レーザービームを結晶裏面から結晶表面に向けて所定の入射角で斜めに入射し、結晶内を透過するレーザービームの通過経路上に存在する結晶欠陥からの散乱光を当該レーザービームの入射面内であって結晶表面側に配置した観測光学系で検出することにより結晶内の結晶欠陥を検出することを特徴とする前方散乱光による結晶欠陥検出方法。
IPC (2件):
G01N 21/88 ,  H01L 21/66
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-012254
  • 特開平3-226661
  • ガラス基板異物検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-105074   出願人:日立電子エンジニアリング株式会社
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