特許

J-GLOBAL ID：200903008457676928

研磨布およびその製造方法

発明者： 水野 剛 ,  山本 恵司 ,  水本 英伸
出願人/特許権者： ニッタ・ハース株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-076383
公開番号（公開出願番号）：特開2006-255828
出願日： 2005年03月17日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】 ダミー研磨に要する時間を短縮を図ってウェハの生産性を高める。【解決手段】 不織布にウレタン樹脂を含浸させた基材に、ポリ塩化ビニルなどのポリハロゲン化ビニルまたは塩化ビニル共重合体などのハロゲン化ビニル共重合体を含有させたウレタン樹脂溶液を塗布し(S9)、湿式凝固し(S10)、洗浄した(S11)後に、ポリハロゲン化ビニルまたはハロゲン化ビニル共重合体のガラス転移点よりも高温で熱処理する(S12)。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基材に、ポリハロゲン化ビニルまたはハロゲン化ビニル共重合体を含有させた樹脂溶液を塗布し、湿式凝固した後に、熱処理することを特徴とする研磨布の製造方法。

IPC (5件)：

B24B 37/00 ,  C08J 5/14 ,  C08L 27/04 ,  C08L 75/04 ,  H01L 21/304

FI (5件)：

B24B37/00 C ,  C08J5/14 ,  C08L27/04 ,  C08L75/04 ,  H01L21/304 622F

Fターム (16件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA06 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  4F071AA24 ,  4F071AA53 ,  4F071AF28 ,  4F071AG28 ,  4F071AH12 ,  4F071DA11 ,  4F071DA19 ,  4J002BD02W ,  4J002CK02X ,  4J002GK02 ,  4J002GT00

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ウェーハの研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-225753   出願人：信越半導体株式会社