特許
J-GLOBAL ID：200903008483634796

磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体および磁気ディスク装置

発明者：
兵藤 浩之

兵藤 浩之 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-210456
公開番号（公開出願番号）：特開2006-031849
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】磁気記録層の磁気特性を劣化させることなくディスクリートトラック媒体を製造することができる方法を提供する。【解決手段】非磁性基板上に下地層、磁気記録層、第1のカーボン系保護層を順次形成する工程と、第1のカーボン系保護層上にレジストを形成し、レジストを記録トラックに相当するパターンに加工する工程と、レジストのパターンをマスクとして、第1のカーボン系保護層および磁気記録層をエッチングしてガードバンドに相当する凹部を形成する工程と、レジストのパターンを除去する工程と、ガードバンドに相当する凹部に非磁性膜を埋め込む工程と、磁気記録層上に第1のカーボン系保護層を残した状態で、非磁性膜を平坦化する工程と、第1のカーボン系保護層および非磁性膜の全面に第2のカーボン系保護層を形成する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
非磁性基板上に下地層、磁気記録層、第1のカーボン系保護層を順次形成する工程と、 前記第1のカーボン系保護層上にレジストを形成し、前記レジストを記録トラックに相当するパターンに加工する工程と、 前記レジストのパターンをマスクとして、前記第1のカーボン系保護層および磁気記録層をエッチングしてガードバンドに相当する凹部を形成する工程と、 前記レジストのパターンを除去する工程と、 前記ガードバンドに相当する凹部に非磁性膜を埋め込む工程と、 前記磁気記録層上に前記第1のカーボン系保護層を残した状態で、前記非磁性膜を平坦化する工程と、 前記第1のカーボン系保護層および前記非磁性膜の全面に第2のカーボン系保護層を形成する工程と を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/72
FI (3件)：
G11B5/84 B ,  G11B5/65 ,  G11B5/72
Fターム (12件)：
5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006FA00 ,  5D006FA09 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BC05 ,  5D112GA20
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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