特許

J-GLOBAL ID：200903008485602026

分極反転誘電体微小構造を誘電体材料内にパターン化し製造する方法

発明者： ツェ-チア・リン ,  ツァン・ユアン・シャン ,  ピン・ハオ・シェア ,  イェン-フアン・チェン ,  ミン-シェン・チョウ
出願人/特許権者： エイチシー・フォトニクス・コーポレーション
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-075070
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307758
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】 誘電体材料に分極反転誘電体微小構造をパターン化し製造する方法を提供する。【解決手段】 誘電体材料内に分極反転誘電体微小構造を形成する。次いで、分極反転誘電体微小構造を複数の独立したサブ構造にセグメント分けする。その後、分極反転誘電体微小構造を複数の独立したサブ構造の各々内に製造する。更に、本パターン化-製造方法を改良し実施するための追加のプロセス及び新規なポーリングセットアップを開示する。

請求項（抜粋）：

誘電体材料に分極反転誘電体微小構造をパターン化し製造する方法において、一の分極反転誘電体微小構造を誘電体材料内に形成する工程、前記一の分極反転誘電体微小構造を複数の独立したサブ構造にセグメント分けする工程、及び前記分極反転誘電体微小構造を前記複数の独立したサブ構造の各々内に製造する工程を含む、方法。

Fターム (6件)：

2K002AB12 ,  2K002CA03 ,  2K002CA04 ,  2K002FA24 ,  2K002FA28 ,  2K002HA20

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 分極反転作製方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-077911   出願人：京セラ株式会社